產(chǎn)品名稱：4電弧提拉法單晶生長爐

CY-AR3000BG-T 4電弧提拉法單晶生長爐

腔體

1、采用304不銹鋼腔體，帶有水冷夾層，可通入冷卻水

2、腔體上安裝有石英窗口，以便觀察樣品

3、腔體真空度：10-5Torr（采用分子泵）

4、腔體尺寸：Φ257*360mm

真空計

1、腔體上安裝有數(shù)顯防腐真空計和機械壓力表

電弧槍

1、共有4個電弧槍，可讓樣品得到均勻的溫場（電弧槍都帶有冷卻水）

2、鎢電極直徑為Φ4mm

3、電弧腔體對樣品的角度和距離可手動調(diào)節(jié)

4、起弧電源： 18 V / 185 A    電壓380V

5、熔煉溫度可達3000℃

樣品臺

1、采用水冷銅坩堝

2、可投入樣品量為60g(按鐵計算)

提拉機構(gòu)

1、控制器控制提拉機構(gòu)的提拉速度，轉(zhuǎn)速和轉(zhuǎn)速

2、提拉速度：0.2-10mm/h

3、提拉行程：0-70mm

4、轉(zhuǎn)速：0-40RPM

控制單元

1、可顯示和設置單晶生長的參數(shù)（起弧電流，提拉桿轉(zhuǎn)速，提拉行程和轉(zhuǎn)速）

真空泵

1、設備中配有一分子泵系統(tǒng)（機械泵+渦旋分子泵）

2、抽氣速率：100L/S

3、可使設備腔體的真空度達到10-5Torr(40分鐘內(nèi))

循環(huán)水冷機

1、功率：800W

2、水流速度：58L/min

3、制冷能力：5004W（17500Btu/hour）

4、溫度控制：5~30°C

設備尺寸：800mm（L）*800mm（W）*1500mm(H)