產(chǎn)品詳情
        • 產(chǎn)品名稱:桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀

        • 產(chǎn)品型號(hào):CY-MSZ180-I-DC-Q
        • 產(chǎn)品廠商:其它品牌
        • 產(chǎn)品文檔:
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        簡(jiǎn)單介紹:
        本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
        詳情介紹:

        本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。

        本套配置采用石英真空腔體,鍍膜過(guò)程全向可視,便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄,腔體設(shè)計(jì)開(kāi)啟方便,易于清理,十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái),可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì),操作邏輯簡(jiǎn)單,操作界面直觀,利于上手。

        桌面型單靶磁控鍍膜儀

        桌面型單靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

        產(chǎn)品名稱

        桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀

        產(chǎn)品型號(hào)

        CY-MSZ180-I-DC-Q

        樣品臺(tái)

        外形尺寸

        φ100mm

        加熱溫度

        ≦500℃

        可調(diào)轉(zhuǎn)速

        ≦20rpm

        磁控靶槍

        配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm

        真空腔體

        腔體尺寸

        φ180mm X 215mm

        觀察窗口

        全向透明

        腔體材料

        高純石英

        開(kāi)啟方式

        上蓋拆卸式

        真空系統(tǒng)

        前級(jí)泵

        低噪音雙極旋片泵

        分子泵

        低噪音大抽速渦輪分子泵

        真空測(cè)量

        復(fù)合真空計(jì),量程:10-5~105Pa

        抽氣接口

        KF16

        抽氣接口

        KF40

        排氣接口

        KF16

        系統(tǒng)真空

        1.0×10-4Pa

        供電電源

        AC 220V 50/60Hz

        抽氣速率

        分子泵抽速600L/s,前級(jí)抽速1.1L/s 

        電源配置

        電源數(shù)量

        直流電源一套

        輸出功率

        300W

        其他參數(shù)

        供電電壓

        AC220V,50Hz

        整機(jī)功率

        2kW

        整機(jī)尺寸

        550mm X 350mm X1200mm


        豫公網(wǎng)安備 41019702002438號(hào)